IC 제조 썸네일형 리스트형 KLA-Tencor, 새로운 레티클 검사 시스템 발표 레티클 검사 시스템 KLA-Tencor Corporation이 10nm 이하의 마스크 기술에 적용할 수 있는 세 개의 앞선 레티클 검사 시스템인 Teron 640, Teron SL655 및 Reticle Decision Center(RDC)를 발표했다. 이 세 시스템은 모두 현재 및 차세대 마스크 설계를 가능하게 하는 핵심 장비로서, 마스크 작업과 IC 제조의 노광 공정에서 중대하고 심각하게 수율 손상을 일으키는 불량을 더욱 효과적으로 식별할 수 있도록 해준다. 혁신적인 이중 촬영(Dual Imaging) 기술을 활용함으로써, Teron 640 검사 시스템은 마스크 작업에서 첨단 광학 마스크를 정밀하게 선별하는 데 필요한 감도를 제공한다. Teron SL655 검사 시스템은 투입되는 레티클 품질의 예비검.. 더보기 이전 1 다음